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이한보람

이한보람

소속

인천대학교 (신소재공학과)

AI요약

인천대학교 신소재공학과 이한보람 교수는 원자층 증착(ALD) 및 플라즈마 원자층 증착(PE-ALD) 기술을 기반으로 첨단 신소재 및 소자 분야의 혁신 연구를 선도하고 있습니다. 이 교수는 고온에서도 안정적인 소수성 표면 개질, 전기적 특성이 향상된 MIM/MOS 커패시터, 초소수성 코팅 재료 개발, 그리고 메모리 소자 및 이차원 나노소재의 결함 치유 방법 등에 대한 다수의 특허를 보유하고 있습니다. 이한보람 교수의 연구는 재료의 물리적, 전기적 특성 한계를 극복하고, 반도체, 필터, 촉매, 자가치유 고분자 등 다양한 산업 분야에 적용 가능한 핵심 기술을 제공하여 미래 산업 발전에 기여하고 있습니다. 이 교수의 심도 깊은 연구 성과를 통해 혁신적인 협력 기회를 모색하시기 바랍니다.

기본 정보

연구자 프로필
이한보람 프로필 사진
연구자 명이한보람
직책교수
이메일hbrlee@inu.ac.kr
재직 상태재직 중
소속인천대학교
부서 학과신소재공학과
사무실 번호0328358408
연구실나노재료연구실
연구실 홈페이지http://nanomaterial.kr
홈페이지https://www.dropbox.com/scl/fi/zi29qy5mgzny5lfk5jc3e/Curriculum-Vitae_Han-Bo-Ram-Lee_En.pdf?rlkey=3vyx08klnt4b5bnrn1yu2uvso&e=1&dl=0

경력정보

회사명인천대학교
재직기간2022.03.01 ~ 재직 중
담당업무교수
회사명인천대학교
재직기간2017.03.01 ~ 2022.02.28
담당업무부교수
회사명인천대학교
재직기간2013.02.01 ~ 2017.02.28
담당업무조교수
회사명Stanford University
재직기간-
담당업무박사후 연구원
회사명연세대학교
재직기간-
담당업무박사후 연구원

중요 키워드

#표면화학#반도체소자#반도체공정#MEMS/NEMS#고성능박막#박막증착#재료과학#희토류산화물#나노공정#원자층증착#나노소재#ALD#아이스포빅#표면개질#초소수성

대외활동

활동 내용[학회/위원회 활동] - Chemistry of Materials, ACS Publications 부편집장 [강연 활동] - 2008년부터 2018년까지 다수의 국내외 학회 초청 강연 - 2006년부터 2015년까지 다수의 국내외 학회 일반 강연 [사업 참여] - 지역산업연계 대학 Open-Lab 육성 지원 사업 참여

주요 연구 내용

연구 내용[연구 분야] 나노공정, 원자층증착 (ALD), 반도체공정, 표면화학, 밀도함수이론 (DFT) 및 몬테카를로 시뮬레이션 활용 표면 기능화, 선택적 증착 (ASD), 초소수성 및 아이스포빅 표면, 원자층 변조 (ALM), 신흥 반도체 장치 [대표 연구 내용] 전자현미경 샘플 측정 시 고온 처리로 인한 샘플 손상 및 이미지 왜곡 문제를 해결하고자, 100℃ 이하 저온 원자층 증착(ALD) 백금 공정을 개발하여 미세 요철이 많은 복잡한 3차원 구조에도 얇고 균일한 전도성 박막을 형성할 수 있습니다. 이를 통해 샘플 변질 및 이미지 왜곡 없이 선명한 주사전자현미경(SEM) 이미지를 얻을 수 있으며, 열에 취약한 샘플에도 적용 가능합니다. 이는 차세대 전자현미경 분석 기술의 핵심이 될 것입니다. 또한, 기존 MIM/MOS 커패시터의 기술적 한계를 극복하기 위해 원자층 증착법(ALD)을 활용한 전기소자 제조 방법을 개발했습니다. 이 기술은 이트륨 산화물 도핑 지르코늄 산화물 박막 및 염소 함량이 낮은 하프늄 전구체를 사용하여 전기적 특성을 크게 향상시킵니다. 균일하게 도핑된 산화물 박막 생산이 가능하여 미래 전기소자의 소형화에 확대 적용될 수 있습니다. 메모리 소자의 미스얼라인 결함을 해결하기 위한 선택적 증착 기술은 O2와 H2 가스를 이용한 선택적 산화 및 자기조립단분자막(SAM) 흡착을 통해 나노 스케일 패터닝 공정의 단점을 보완합니다. 모든 공정이 진공 상에서 이루어지므로 현재 반도체 공정에 직접 적용 가능하며, 전기적 쇼트를 방지하여 반도체 생산 수율 향상에 기여합니다. 고품질 사중패터닝 물질 제조 분야에서는 슈퍼사이클 ALD를 이용하여 이트륨산화물을 타이타늄산화물에 도핑하여 기존 TiO2 박막의 후속 열처리 공정에 의한 표면 거칠기 증가 문제를 해결하였습니다. 이 기술은 반도체 산업에서 미세 패턴 형성에 필수적인 고품질 소재를 제공합니다. 이와 더불어, 희토류 산화물을 이용한 초소수성 표면 개질 기술은 플라즈마 원자층 증착법(PE-ALD) 또는 일반 ALD를 통해 고온에서도 안정적인 소수성을 유지하고 표면 특성을 정밀하게 조절할 수 있습니다. 코어쉘 구조의 세라믹 파우더를 활용한 방법은 효율적이고 경제적이며, PDMS와 마이크로 파우더를 이용한 초소수성 코팅 기술은 대면적 적용이 용이하여 방수/발수 코팅 등 다양한 산업 분야에 활용 가치가 높습니다. 마지막으로, 수분 제거 필터용 초소수성 신소재는 ALD를 이용하여 정유기 필터 여재에 희토류 산화물(REO)을 코팅함으로써 수백 ppm 이하의 초미세 수분까지 제거 가능한 혁신적인 솔루션을 제공합니다. 이는 열적 안정성 및 내구성을 개선하고 우수한 박막 특성을 구현하여 고성능 수분 제거 필터 시장에 새로운 지평을 열 것입니다.

학력

학력 사항포항공과대학교 공학 박사 (2009) 포항공과대학교 공학 석사 (2007) 성균관대학교 공학 학사 (2005)

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